XPS分析
1对1客服专属服务,免费制定检测方案,15分钟极速响应
发布时间:2024-05-21 08:15:32 更新时间:2025-05-27 17:43:37
点击:789
作者:中科光析科学技术研究所检测中心

1对1客服专属服务,免费制定检测方案,15分钟极速响应
发布时间:2024-05-21 08:15:32 更新时间:2025-05-27 17:43:37
点击:789
作者:中科光析科学技术研究所检测中心
X射线光电子能谱(XPS),又称化学分析电子能谱(ESCA),是一种基于光电效应的表面分析技术,通过测量材料表面被X射线激发出的光电子能量分布,获得元素组成、化学态及电子结构信息。
核心原理:
光电效应
检测深度:1-10 nm(仅表征材料表层信息)
分辨率:
能量分辨率:0.1-1.0 eV
横向空间分辨率:3-10 μm(常规模式),<1 μm(微聚焦模式)
行业领域 | 典型应用场景 |
---|---|
材料科学 | 表面涂层成分分析、腐蚀产物化学态鉴定 |
半导体 | 栅极氧化物界面研究、掺杂浓度检测 |
催化化学 | 催化剂活性位点氧化态分析 |
生物医学 | 生物材料表面官能团表征 |
环境科学 | 污染物表面吸附机制研究 |
国际标准
ISO 15472:2020《表面化学分析-X射线光电子能谱仪-能量标校准》
ASTM E902-05《XPS仪器性能验证标准方法》
国家标准
GB/T 29556-2013《表面化学分析-X射线光电子能谱分析方法通则》
GB/T 35033-2018《纳米材料表面元素化学态鉴定-XPS法》
行业指南
NIST数据库(标准结合能参考值)
ISO 20903:2019《表面化学分析-定量分析中的重复性和一致性要求》
检测范围:除H、He外的所有元素(检测限0.1-1.0 at%)
关键参数:光电子峰面积、元素灵敏度因子(Scofield因子)
结合能位移(示例):
C 1s:C-C(284.8 eV)、C-O(286.5 eV)、C=O(288.1 eV)
O 1s:金属氧化物(529-531 eV)、羟基/吸附水(531-533 eV)
离子溅射技术:Ar⁺束(0.5-4 keV)逐层剥离表面
深度分辨率:5-20 nm/分钟(取决于溅射参数)
方法:峰面积法(考虑传输函数校正)
误差控制:重复测试相对标准偏差(RSD)≤5%
部件名称 | 技术指标 | 典型型号示例 |
---|---|---|
X射线源 | Al Kα(1486.6 eV)或单色化微聚焦源 | Thermo Scientific K-Alpha⁺ |
分析器 | 半球形电子能量分析器(CHA) | PHI VersaProbe Ⅲ |
探测器 | 多通道电子倍增器(MCD) | SPECS Phoibos 150 |
离子枪 | 低能电子中和枪+Ar⁺溅射枪 | Ulvac-Phi NanoTOF II |
证书编号:241520345370
证书编号:CNAS L22006
证书编号:ISO9001-2024001
版权所有:北京中科光析科学技术研究所京ICP备15067471号-33免责声明