TEM分析：核心检测项目详解

透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy, TEM）是一种基于高能电子束穿透样品并形成高分辨率图像与衍射谱的分析技术。其分辨率可达原子级别（0.1 nm），广泛应用于材料科学、纳米技术、生物学等领域。以下重点解析TEM的核心检测项目及其应用。

一、形貌与结构分析

1. 纳米颗粒/材料形貌

   • 检测内容：观察纳米颗粒的尺寸、形状、分散性及表面形貌。
   • 技术方法：明场像（BF-TEM）、暗场像（DF-TEM）。
   • 应用实例：量子点尺寸分布分析、催化剂颗粒形貌表征。

2. 高分辨成像（HRTEM）

   • 检测内容：直接观测原子排列、晶面间距及晶体缺陷。
   • 技术要点：需样品极薄（<100 nm），通过相位衬度成像解析原子结构。
   • 案例：石墨烯层数判定、半导体异质结界面原子排布。

二、晶体结构分析

1. 电子衍射（SAED）

   • 检测内容：确定晶体结构、晶格参数及取向。
   • 方法：选区电子衍射（SAED）或会聚束电子衍射（CBED）。
   • 应用：区分多晶/单晶材料，分析未知相结构。

2. 晶格应变与畸变

   • 检测技术：几何相位分析（GPA）结合HRTEM图像。
   • 意义：量化材料内部应力分布，指导器件性能优化。

三、成分与化学分析

1. 能谱分析（EDS）

   • 检测内容：元素种类及相对含量，面分布/线扫描分析。
   • 分辨率：空间分辨率约1-2 nm，适合重元素检测。
   • 案例：合金中元素偏析分析、复合材料成分分布。

2. 电子能量损失谱（EELS）

   • 优势：高灵敏度检测轻元素（如C、N、O），分析化学键态。
   • 应用：碳材料sp²/sp³杂化鉴定、过渡金属氧化态分析。

四、界面与缺陷表征

1. 界面结构

   • 检测内容：异质界面原子匹配、扩散层厚度。
   • 技术：结合HRTEM与EDS线扫描。
   • 案例：太阳能电池中电极/半导体界面优化。

2. 晶体缺陷分析

   • 类型：位错、层错、晶界、空位等。
   • 方法：弱束暗场像（WBDF）提高缺陷对比度。
   • 意义：揭示材料力学性能与缺陷的关联性。

五、动态与原位分析

1. 原位TEM

   • 功能：实时观察材料在加热、拉伸或化学反应中的动态变化。
   • 案例：纳米线生长机制研究、电池充放电过程颗粒破裂分析。

2. 三维重构（ETEM）

   • 技术：通过样品倾转获取系列图像，重构三维结构。
   • 应用：多孔材料孔隙结构可视化、纳米颗粒三维形貌重建。

六、典型应用领域

1. 纳米材料：量子点、碳纳米管、MOFs结构的形貌与成分分析。
2. 生物样品：病毒颗粒、蛋白质复合物（需低温TEM技术）。
3. 金属与合金：相变过程、析出相与位错相互作用。
4. 半导体器件：界面缺陷、掺杂分布对电学性能的影响。

七、未来发展趋势

• 更高时间分辨率：超快TEM技术捕捉飞秒级动态过程。
• 原位环境控制：气体/液体环境下真实工况的材料行为研究。
• AI辅助分析：机器学习加速图像处理与数据解读。

结语

TEM分析通过多维度检测项目，为材料微观世界提供原子级洞察。选择合适的技术组合（如HRTEM+EDS+EELS）可全面解析材料的结构-性能关系，推动新材料研发与工业质量控制。样品制备与操作经验仍是获得高质量数据的关键。

分享

检测机构资质证书

CMA认证

检验检测机构资质认定证书

证书编号：241520345370

有效期至：2030年4月15日

CNAS认可

实验室认可证书

证书编号：CNAS L22006

有效期至：2030年12月1日

ISO认证

质量管理体系认证证书

证书编号：ISO9001-2024001

有效期至：2027年12月31日

关于我们

部分仪器

合作客户