原料药XRD检测
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发布时间:2025-03-07 10:05:59 更新时间:2025-03-06 10:07:40
点击:0
作者:中科光析科学技术研究所检测中心

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作者:中科光析科学技术研究所检测中心
原料药的晶型(多晶型、溶剂合物、无定形态)直接影响其 溶解度、稳定性 及 生物利用度。XRD检测是鉴别晶型、验证工艺一致性的核心手段,需符合以下标准:
步骤 | 操作要点 |
---|---|
研磨处理 | 避免过度研磨(防止晶型转变),玛瑙研钵轻磨至200目(75μm)→ 过筛确保均匀性; |
装样 | 玻璃样品架或零背景硅片→ 样品表面平整无择优取向(避免压片过紧); |
湿度控制 | 易吸湿样品需在干燥箱(湿度≤30% RH)中操作,或使用密封样品池。 |
参数 | 推荐值 | 备注 |
---|---|---|
X射线源 | Cu-Kα(λ=1.5406 Å) | 电压40kV,电流40mA(常规分析); |
扫描范围(2θ) | 5°~50°(广角扫描)或根据目标峰调整 | 步长0.02°,停留时间1s/步; |
检测器 | 一维阵列探测器(LynxEye)或二维探测器 | 二维探测器适用于快速扫描(1min/样品)。 |
问题现象 | 可能原因 | 解决方案 |
---|---|---|
衍射峰强度异常低 | 样品量不足或取向效应 | 增加样品量(填充深度≥0.5mm),旋转样品台(消除择优取向); |
基线漂移严重 | 非晶成分或荧光背景 | 增加滤波片(Ni滤片),或改用单色器; |
未知峰出现 | 新晶型或溶剂残留 | 结合TGA/DSC分析(验证是否溶剂合物),重新结晶并检测; |
重复性差 | 研磨不均匀或湿度影响 | 标准化研磨流程,使用湿度控制样品池; |
设备/耗材 | 推荐型号 | 功能特点 |
---|---|---|
X射线衍射仪 | Bruker D8 Advance | 全自动测角仪,二维探测器VÅNTEC-1 |
标准硅粉 | NIST SRM 640d | 2θ校准基准(28.443°) |
零背景样品架 | 零背景硅片(Bruker AXS) | 消除基底干扰,适合微量样品 |
通过系统化XRD检测,可确保原料药 晶型一致 且 工艺可控,建议企业建立 “工艺-检测-数据库”联动体系,结合 原位分析技术 与 计算模拟(如晶型预测软件)提升研发效率。
证书编号:241520345370
证书编号:CNAS L22006
证书编号:ISO9001-2024001
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