超纯水检测
1对1客服专属服务,免费制定检测方案,15分钟极速响应
发布时间:2025-03-14 09:25:34 更新时间:2025-03-13 09:27:31
点击:0
作者:中科光析科学技术研究所检测中心

1对1客服专属服务,免费制定检测方案,15分钟极速响应
发布时间:2025-03-14 09:25:34 更新时间:2025-03-13 09:27:31
点击:0
作者:中科光析科学技术研究所检测中心
超纯水检测需围绕 电阻率、总有机碳(TOC)、微生物、颗粒物及离子纯度 等核心指标展开,确保其符合 ASTM D5127(美国标准)、CLSI CLRW(临床实验室用水) 及 GB/T 11446(中国电子级水标准) 等规范。以下是针对 半导体、制药、实验室分析 等领域的系统化检测方案:
检测类别 | 关键参数 | 检测方法 | 判定标准 |
---|---|---|---|
电化学性能 | 电阻率(≥18.2 MΩ·cm,25℃)、电导率(≤0.055 μS/cm) | 在线电阻率仪(ASTM D5391)、四电极法(GB/T 6682) | 半导体级:电阻率≥18.2 MΩ·cm(25℃) |
总有机碳(TOC) | 总有机碳浓度(≤5 ppb) | 紫外氧化-电导检测(ASTM D5997)、NDIR检测(ISO 16094) | 注射用水(TOC≤500 ppb,USP<643>) |
微生物指标 | 细菌总数(≤1 CFU/mL)、内毒素(≤0.25 EU/mL) | 膜过滤法(GB/T 5750.12)、鲎试剂法(GB/T 14233) | 制药用水(USP WFI级内毒素≤0.25 EU/mL) |
颗粒物 | ≥0.1μm颗粒数(≤1个/mL) | 激光颗粒计数器(ISO 21501-4)、SEM-EDS分析(ISO 16232) | 半导体冲洗水(≥0.05μm颗粒≤1个/mL) |
离子浓度 | 阴离子(Cl⁻≤1 ppb)、阳离子(Na⁺≤0.1 ppb) | 离子色谱(GB/T 31197)、ICP-MS(ISO 17294) | SEMI C12级:Na⁺≤0.1 ppb |
溶解气体 | 溶解氧(≤10 ppb)、二氧化碳(≤1 ppm) | 膜电极法(ASTM D888)、非分散红外法(GB/T 12157) | 高纯水溶解氧≤5 ppb |
设备/工具 | 用途 | 推荐型号/品牌 |
---|---|---|
超纯水电阻率仪 | 在线电阻率/电导率监测(0.055 μS/cm精度) | METTLER TOLEDO InLab 750(四电极) |
TOC分析仪 | ppb级总有机碳检测(紫外氧化+电导检测) | GE Sievers M9(检测限0.5 ppb) |
激光颗粒计数器 | 亚微米颗粒计数(0.05~100μm) | Particle Measuring Systems Climet CI-310 |
微生物膜过滤系统 | 超低菌落数检测(0.1μm滤膜) | Millipore Sigma MilliFlex® Rapid |
高分辨ICP-MS | 痕量金属离子分析(ppt级灵敏度) | Thermo Scientific iCAP RQ(碰撞池技术) |
问题现象 | 可能原因 | 改进措施 |
---|---|---|
电阻率下降 | CO₂溶解或离子交换树脂失效 | 增加脱气装置(膜脱气/真空脱气),更换混床树脂(电导率≤0.1 μS/cm) |
TOC超标 | 储水系统污染或紫外线灯强度不足 | 定期清洗储罐(臭氧或高温消毒),监测紫外灯强度(≥30,000μW/cm²) |
颗粒物异常 | 管道腐蚀或滤膜破损 | 更换316L不锈钢管道,安装双级终端过滤器(0.05μm) |
微生物污染 | 分配系统死角或消毒不彻底 | 优化环路设计(流速≥1.5m/s),巴氏消毒(80℃×2h) |
参数 | 中国(GB/T 11446) | 美国(ASTM D5127) | 国际(SEMI C12) |
---|---|---|---|
电阻率(25℃) ≥18.0 MΩ·cm(EW-Ⅰ级) | ≥18.2 MΩ·cm(Type 1) | ≥18.2 MΩ·cm(Grade 1) | |
TOC限值 ≤100 ppb(EW-Ⅰ级) | ≤50 ppb(Type 1) | ≤5 ppb(SEMI C12) | |
颗粒物(≥0.1μm) ≤100个/mL(EW-Ⅰ级) | ≤10个/mL(Type 1) | ≤1个/mL(Grade 1) |
通过系统化检测,可确保超纯水在 纯度、稳定性及微生物安全 上满足高端应用需求。企业应建立 从原水到终端 的全流程质控,结合 预防性维护 与 实时监控,降低污染风险。对于半导体制造,需特别关注 纳米颗粒(≥0.02μm) 与 硼/硅等特定离子 的痕量分析(ICP-MS检测限≤0.01 ppb)。
证书编号:241520345370
证书编号:CNAS L22006
证书编号:ISO9001-2024001
版权所有:北京中科光析科学技术研究所京ICP备15067471号-33免责声明