石英玻璃检测
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发布时间:2025-03-20 15:53:25 更新时间:2025-03-19 15:53:34
点击:0
作者:中科光析科学技术研究所检测中心

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石英玻璃(SiO₂含量≥99.9%)检测需围绕 化学成分、光学性能、热稳定性及机械强度 四大核心展开,适用于半导体、光学器件、高温窗口及激光设备等领域。遵循国家标准(GB/T 12442《石英玻璃化学分析方法》)、国际标准(ISO 3585《硼硅酸盐玻璃性能》)及行业规范(SEMI F47《石英玻璃半导体应用规范》)。以下是系统化检测方案:
检测项目 | 检测方法 | 标准要求 |
---|---|---|
SiO₂含量 | X射线荧光光谱(XRF,GB/T 12442) | ≥99.95%(高纯级),≥99.9%(工业级) |
金属杂质(Fe/Na) | 电感耦合等离子体质谱(ICP-MS,GB/T 39144) | Fe≤1ppm,Na≤2ppm(半导体级) |
羟基(OH⁻)含量 | 红外光谱法(ISO 10136) | ≤5ppm(低羟基石英玻璃) |
检测项目 | 检测方法 | 标准要求 |
---|---|---|
透光率(紫外-可见) | 分光光度计(GB/T 14148) | 200nm透光率≥90%(紫外级) |
折射率均匀性 | 激光干涉仪(ISO 10110) | 偏差≤±5×10⁻⁶(光学级) |
双折射 | 偏光显微镜(ASTM F218) | ≤5nm/cm(激光应用) |
检测项目 | 检测方法 | 标准要求 |
---|---|---|
热膨胀系数(CTE) | 热膨胀仪(GB/T 16920) | 0.5×10⁻⁶/℃(0-300℃,平均) |
软化点 | 高温粘度计(ISO 7884) | ≥1680℃(工业级) |
抗弯强度 | 三点弯曲试验(GB/T 6569) | ≥50MPa(厚度5mm) |
检测项目 | 检测方法 | 标准要求 |
---|---|---|
表面粗糙度 | 原子力显微镜(AFM,ISO 4287) | Ra≤0.5nm(光学镀膜基材) |
气泡/夹杂物 | 激光散射仪(SEMI F47) | 直径≤0.1mm,密度≤3个/cm³ |
耐酸性 | 氢氟酸浸泡(5% HF,24h,GB/T 7989) | 质量损失≤0.1mg/cm² |
环节 | 控制措施 |
---|---|
原料提纯 | 四氯化硅(SiCl₄)精馏(纯度≥99.999%),氢氧焰熔融(羟基控制≤1ppm) |
熔融工艺 | 电熔炉温度≥1800℃,真空度≤1×10⁻³Pa(减少气泡生成) |
加工与退火 | 梯度退火(1200℃→800℃,降温速率≤5℃/min),消除内应力(双折射≤2nm/cm) |
成品检验 | 每批次全检透光率+杂质含量,抽检热膨胀系数(AQL 0.65,SEMI标准) |
问题 | 原因分析 | 解决方案 |
---|---|---|
透光率不足 | 金属杂质污染或表面划痕 | 优化原料精馏工艺,抛光后超声清洗(超纯水+乙醇) |
高温变形 | 热膨胀系数不均或退火不充分 | 延长退火时间(≥24h),CTE检测分区域取样 |
气泡超标 | 熔融过程排气不彻底 | 真空熔融(压力≤0.1Pa),添加除气剂(Si₃N₄) |
抗酸蚀性差 | SiO₂结构疏松或羟基含量高 | 提高熔融温度(≥1900℃),减少羟基引入 |
总结 石英玻璃检测需以 “高纯稳定、光学优异、耐极端环境” 为核心,通过化学成分(SiO₂/杂质)、光学性能(透光率/均匀性)、热稳定性(CTE/软化点)及表面质量(粗糙度/气泡)的系统化验证。生产企业应依据 GB/T 12442与SEMI F47标准 优化工艺(如真空熔融/梯度退火),通过 ISO/RoHS认证 满足高端领域需求。用户需根据应用场景(半导体/光学/高温)选择适配品级,优先采用 全检合格+功能强化 石英玻璃,并强化工艺适配性(如镀膜/封装设计),确保材料在极端工况下的可靠性与寿命。
证书编号:241520345370
证书编号:CNAS L22006
证书编号:ISO9001-2024001
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