一、基本原理
氦质谱检漏(Helium Mass Spectrometry Leak Detection)是一种高灵敏度的气体泄漏检测方法,利用氦气(He)作为示踪气体,通过质谱仪检测氦分子信号来定位和量化泄漏点。其核心原理包括:
- 示踪气体特性:氦气分子小(直径约0.26nm)、惰性强、无毒,易穿透微小漏孔,且在空气中本底浓度低(约5ppm),检测干扰小。
- 质谱分析:氦气进入质谱仪后电离为He⁺离子,通过磁场分离并检测其质荷比(m/z=4),灵敏度可达10⁻¹² Pa·m³/s(相当于年漏率小于1克氦气)。
二、应用场景
- 高真空设备:半导体芯片制造腔体、粒子加速器、空间模拟舱等。
- 密封系统:航天器燃料管路、核反应堆冷却系统、锂电池封装。
- 工业部件:空调/制冷系统、汽车油箱、医疗器械(如透析机)。
三、检测步骤与操作规范
1. 检测前准备
- 设备校准:使用标准漏孔(如1×10⁻⁷ Pa·m³/s)校准质谱仪,确保量程覆盖目标漏率。
- 系统抽真空:将待测件接入真空系统,预抽至≤10⁻⁴ Pa,降低本底氦气干扰。
- 示踪气体注入:
- 喷吹法:向可疑区域喷氦气(压力0.1-0.2MPa),实时监测质谱信号。
- 氦罩法:将待测件置于充氦环境中(氦浓度50%-80%),检测氦气渗入速率。
2. 泄漏定位与定量
- 信号响应时间:根据质谱仪信号峰值延迟时间(通常1-10秒)判断漏孔位置。
- 漏率计算:依据信号强度与标准漏孔比对,计算实际漏率(公式:Q=Q₀×(S/S₀),Q₀为标准漏率,S/S₀为信号比)。
3. 数据分析与报告
- 漏点标记:记录漏点坐标、漏率及对应部件(如焊缝、密封圈、阀门)。
- 验收标准:根据行业规范判定是否合格(如半导体设备要求漏率≤1×10⁻¹⁰ Pa·m³/s)。
四、技术优势
- 超高灵敏度:可检测微米级漏孔(直径≥1μm),远超气泡法(灵敏度~10⁻⁴ Pa·m³/s)。
- 快速定位:实时响应,适用于复杂系统的多点泄漏排查。
- 无损检测:不破坏被测件结构,适用于精密仪器和已封装产品。
五、注意事项
- 环境控制:检测区域需避风,防止氦气扩散干扰;避免使用含氦气源(如气瓶泄漏)。
- 设备维护:定期清洁质谱仪离子源,防止油污或颗粒物污染。
- 安全防护:高浓度氦气可能导致缺氧,操作时需通风或佩戴氧气监测仪。
六、典型应用案例
案例1:航天器燃料管路检漏
- 问题:某卫星燃料阀门口疑似泄漏,传统方法无法定位。
- 解决方案:采用喷吹法对焊缝逐点检测,发现一处1×10⁻⁹ Pa·m³/s漏孔,经焊接修复后通过复检。
- 结果:系统漏率降至5×10⁻¹¹ Pa·m³/s,满足航天级密封标准。
案例2:半导体晶圆反应腔检漏
- 问题:CVD腔体真空度异常,晶圆表面出现污染。
- 解决方案:氦罩法检测发现腔门密封圈老化,更换后漏率从3×10⁻⁸降至5×10⁻¹¹ Pa·m³/s。
- 结果:晶圆良品率提升15%,设备停机时间减少70%。
氦质谱检漏技术通过精准的示踪气体分析与高灵敏度检测,为高要求密封系统提供了可靠的泄漏诊断方案,广泛应用于尖端制造与科研领域。
CMA认证
检验检测机构资质认定证书
证书编号:241520345370
有效期至:2030年4月15日
CNAS认可
实验室认可证书
证书编号:CNAS L22006
有效期至:2030年12月1日
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