真空度测定_【CMA/CNAS认证】_中科光析科学技术研究所

真空度测定技术概论

真空度测定，即对低于一个标准大气压的气体空间压力（或稀薄程度）的测量，是现代科技与工业的核心基础技术之一。由于其测量对象压力范围跨越十几个数量级，单一方法无法涵盖全范围，因此发展出多种原理迥异的测量技术。

根据测量原理，真空计主要分为绝对真空计和相对真空计（需校准）。按测量性质可分为总压测量和分压测量。

U型管压力计：
- 原理：基于流体静力学原理，通过测量液柱高度差直接计算压力。常用工作液为汞或油。
- 特点：结构简单，是绝对真空计，常用作基准或校准。
薄膜真空计：
- 原理：利用弹性薄膜在压力差下的变形量来测量压力。变形量可通过电容、电感或光学方法检测。
- 特点：测量结果是气体和蒸汽的总压力，精度高，重复性好，是粗低真空段的绝对或传递标准。电容式可测范围可延伸至10^-4 Pa。

热传导真空计（如皮拉尼计）：
- 原理：基于气体热传导与压力相关的特性。加热电阻丝，其温度或电阻值随周围气体压力变化而变化。
- 特点：测量结果为气体和蒸汽的总压，但校准曲线因气体种类而异。量程通常为1000 Pa至10^-1 Pa。
粘滞性真空计（如旋转球粘度计）：
- 原理：利用气体分子内摩擦引起的粘滞力与压力相关的特性。通过测量振荡衰减或转子阻尼来计算压力。
- 特点：在10^-1 Pa至10^-5 Pa范围内可作为绝对真空计。

电离真空计：
- 热阴极电离规（Bayard-Alpert规）：
  - 原理：热阴极发射电子，经栅极加速后与气体分子碰撞使之电离，离子被收集极收集。离子流与气体压力成正比。I+ = K * P * Ie (K为灵敏度系数)。
  - 特点：常规型测量下限约10^-8 Pa。存在X射线极限，对活性气体有抽气效应。
- 冷阴极电离规（如潘宁规）：
  - 原理：在磁场和电场作用下，气体发生自持放电，放电电流与压力相关。
  - 特点：结构坚固，无热丝，可用于存在可燃气体的场合。测量范围通常为1 Pa至10^-7 Pa，精度通常低于热阴极规。
- 极高真空规（如抑制规、弯注规）：
  - 原理：通过特殊电极设计（如离子抑制极、偏转电极）有效抑制或区分由软X射线产生的光电子本底电流，从而将测量下限延伸至10^-11 Pa甚至10^-12 Pa量级。

四极杆质谱计：
- 原理：离子源将气体分子电离，产生的离子进入由四根杆状电极构成的射频电场中。在特定射频与直流电压组合下，仅特定质荷比（m/z）的离子能通过滤波器到达检测器。
- 特点：用于残余气体分析，可定性定量分析混合气体的成分和分压力，是诊断真空系统问题的关键工具。
磁偏转质谱计：
- 原理：离子在均匀磁场中受洛伦兹力作用发生偏转，偏转半径与质荷比的平方根成正比，从而实现质量分离。
- 特点：分辨率高，稳定性好，常用作标准分压力计。

真空度测定的应用领域极其广泛，不同领域对真空度和测量要求差异巨大。

工业过程：制冷行业检漏（粗真空）、真空镀膜（10^-2 ~ 10^-4 Pa）、真空冶金（10^0 ~ 10^-2 Pa）、电子束焊（10^-2 ~ 10^-4 Pa）等，要求真空计稳定、可靠、适应工业环境。
科学仪器：扫描/透射电子显微镜（10^-3 ~ 10^-5 Pa）、粒子加速器（10^-5 ~ 10^-10 Pa）、表面分析仪器（如XPS， AES，需优于10^-8 Pa）等，要求高精度、高稳定性和超高真空能力。
基础科学研究：核聚变装置（超高真空）、空间环境模拟（极高真空）、原子物理实验（极高真空）等，追求极限真空度测量与控制。
半导体制造：离子注入、化学气相沉积、刻蚀等工艺腔室（10^-1 ~ 10^-5 Pa），要求测量快速响应、耐腐蚀、抗污染，并与工艺控制系统高度集成。
食品药品包装：真空或充气包装（10^3 ~ 10^4 Pa），主要使用粗真空计，要求成本低、卫生、耐用。

真空测量需遵循严格的国内外标准，以确保量值传递的准确性和一致性。

国际标准：
- ISO 3567: 《真空技术可比对标准真空计校准直接比对法》
- ISO 27893: 《真空技术真空计四极杆质谱仪的校准》
- ISO 21360: 《真空技术真空计标准方法》系列标准。
中国国家标准：
- GB/T 3163 《真空技术术语》
- GB/T 3164 《真空技术图形符号》
- GB/T 11164 《真空镀膜设备通用技术条件》（含测量要求）
- JJG（航天）《真空计量器具检定系统》
- JJG《工作用热传导真空计》、《工作用电离真空计》等国家计量检定规程。
行业标准：
- 半导体、光学、航天等行业均有具体的真空获得与测量相关标准，对测量位置、精度、气体种类修正等做出规定。

真空测量系统通常由传感器（规管）、控制单元（电源与放大器）、显示/输出单元及连接电缆组成。

复合真空计系统：
- 功能：集成皮拉尼计（热传导规）和热阴极电离规，通过内部逻辑自动切换量程，实现从大气到高真空（10^5 Pa至10^-6 Pa）的连续测量。是现代真空系统的标准配置。
电容薄膜规：
- 功能：作为高精度的绝对真空计，常用于工艺控制、标准传递或作为半导体工艺设备的压力设定点控制。具有耐腐蚀型、高温型等变体。
残余气体分析仪：
- 功能：核心为四极杆质谱计。用于分析真空腔室内的气体成分，识别泄漏特征峰（如H2O, N2, O2， He），监测工艺气体分压，诊断系统污染或材料放气源。
极高/超高真空测量系统：
- 功能：通常包括多个传感器，如宽量程电离规（B-A规）、冷阴极规以及一个或多个极高真空规（如抑制规）。配合高精度控制器和校准系数，实现从高真空到极高真空的可靠测量。
校准与标准装置：
- 静态膨胀系统：基于波义耳定律，用于校准高、超高真空计。
- 标准比对系统：以经过更高标准校准的传递标准（如电容薄膜规、磁悬浮转子规）为参考，在真空室中与待校规进行直接比对。
- 磁悬浮转子规：利用磁悬浮无接触驱动一个钢球匀速旋转，通过测量其减速速率（气体分子摩擦所致）来计算绝对压力。是国际公认的从10^-5 Pa至100 Pa的顶级真空基准。